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156-0036-6678
Specification for registration marks for photomasks
国家标准《光掩模对准标记规范》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC4(全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分会)执行,主管部门为国家标准委。
主要起草单位中国科学院微电子中心。
标准号:GB/T 16524-1996发布日期:1996-09-09实施日期:1997-05-01标准类别:基础中国标准分类号:L95国际标准分类号:31.200 归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分会主管部门:国家标准委
本标准等效采用其他国际标准:SEMI P6:1988。采标中文名称:。
中国科学院微电子中心
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服务领域广泛,涉及众多行业。食品、环境、医药、化工,还是建筑、电子、机械等领域,都能提供专业检测服务。
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