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156-0036-6678
Guidelines for photomask defect classification and size definition
国家标准《光掩模缺陷分类和尺寸定义的准则》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC4(全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分会)执行,主管部门为国家标准委。
主要起草单位中国科学院微电子中心。
标准号:GB/T 16880-1997发布日期:1997-06-20实施日期:1998-03-01标准类别:基础中国标准分类号:L97国际标准分类号:31.020 归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分会主管部门:国家标准委
本标准等同采用其他国际标准:SEMI P22:1993。采标中文名称:。
中国科学院微电子中心
GB/T 17866-1999 掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则GB/T 16879-1997 掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则GB/T 16524-1996 光掩模对准标记规范JB/T 12424-2015 电气用热固性模塑制品可视缺陷定义及分类(SMC/BMC)GB/T 34178-2017 光掩模石英玻璃基板GB/T 16523-1996 圆形石英玻璃光掩模基板规范20250730-T-469 碳纤维微观形貌、尺寸及缺陷的测试方法SJ/T 11863-2022 单片超大尺寸掩模板装载盒规范20230788-T-469 产品几何技术规范(GPS) 表面结构:区域法 第73部分:实物标准表面缺陷的术语和定义SJ/T 31080-2016 光掩模制作用图形发生器完好要求和检查评定方法
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服务领域广泛,涉及众多行业。食品、环境、医药、化工,还是建筑、电子、机械等领域,都能提供专业检测服务。
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