GB/T 16879-1997《掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则》

Guidelines for precision and accuracy expression for mask writing equipment

国家标准《掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC4（全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分会）执行，主管部门为国家标准委。

主要起草单位中国科学院微电子中心。

基础信息

标准号：GB/T 16879-1997发布日期：1997-06-20实施日期：1998-03-01标准类别：基础中国标准分类号：L97国际标准分类号：31.020 归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分会主管部门：国家标准委

采标情况

本标准等同采用其他国际标准：SEMI P21:1992。采标中文名称:。

起草单位

中国科学院微电子中心

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