GB/T 24579-2009《酸浸取原子吸收光谱法测定多晶硅表面金属污染物》

Test method for measuring surface metal contamination of polycrystalline silicon by acid extraction-atomic absorption spectroscopy

国家标准《酸浸取原子吸收光谱法测定多晶硅表面金属污染物》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准委。

主要起草单位信息产业部专用材料质量监督检验中心、中国电子科技集团公司第四十六研究所。

主要起草人褚连青、王奕、魏利洁。

基础信息

标准号：GB/T 24579-2009发布日期：2009-10-30实施日期：2010-06-01标准类别：方法中国标准分类号：H80国际标准分类号：29.045 归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会主管部门：国家标准委

采标情况

本标准修改采用其他国际标准：SEMI MF1724-1104。采标中文名称:采用酸萃取原子吸收光谱法测量多晶硅表面金属沾污。

起草单位

信息产业部专用材料质量监督检验中心中国电子科技集团公司第四十六研究所

起草人

褚连青王奕魏利洁

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