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Surface chemical analysis—Depth profiling—Measurement of sputtering rate: mesh-replica method using a mechanical stylus profilometer
国家标准《表面化学分析 深度剖析 用机械轮廓仪栅网复型法测量溅射速率》由TC608(全国表面化学分析标准化技术委员会)归口,主管部门为中国科学院。
主要起草单位北京师范大学分析测试中心、清华大学分析中心。
主要起草人吴正龙 、姚文清 。
标准号:GB/T 32999-2016发布日期:2016-10-13实施日期:2017-09-01标准类别:方法中国标准分类号:G04国际标准分类号:71.040.40 归口单位:全国表面化学分析标准化技术委员会执行单位:全国表面化学分析标准化技术委员会主管部门:中国科学院
本标准等同采用ISO国际标准:ISO/TR 22335:2007。采标中文名称:表面化学分析 深度剖析 用机械轮廓仪栅网复型法测量溅射速率。
北京师范大学分析测试中心清华大学分析中心
吴正龙姚文清
GB/T 29557-2013 表面化学分析深度剖析溅射深度测量20233734-T-469 表面化学分析 溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法GB/T 41064-2021 表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法20240152-T-469 表面化学分析深度剖析AES和XPS深度剖析时离子束对准方法及其束流或束流密度的测量方法GB/T 20175-2006 表面化学分析 溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法20240005-T-469 表面化学分析深度剖析中能离子散射术对硅基底上纳米尺度重金属氧化物薄膜的无损深度剖析GB/T 34326-2017 表面化学分析 深度剖析 AES和XPS深度剖析时离子束对准方法及其束流或束流密度测量方法GB/T 40109-2021 表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法GB/T 32997-2016 表面化学分析辉光放电发射光谱定量成分深度剖析的通用规程GB/T 32495-2016 表面化学分析二次离子质谱硅中砷的深度剖析方法
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