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GB/T 6618-2009《硅片厚度和总厚度变化测试方法》

Test method for thickness and total thickness variation of silicon slices

国家标准《硅片厚度和总厚度变化测试方法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,主管部门为国家标准委。

主要起草单位北京有研半导体材料股份有限公司。

主要起草人卢立延 、孙燕 、杜娟 。

基础信息

标准号:GB/T 6618-2009发布日期:2009-10-30实施日期:2010-06-01全部代替标准:GB/T 6618-1995标准类别:方法中国标准分类号:H80国际标准分类号:29.045 归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会主管部门:国家标准委

起草单位

北京有研半导体材料股份有限公司

起草人

卢立延孙燕杜娟

相近标准(计划)

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微析院所经过严格的审核程序,获得了CMA资质认证成为正规的检测机构,不出具CMA检测报告的机构请斟酌。

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独立公正立场

严格按照法律法规和行业标准行事,不受任何外部干扰,真实反映实际情况,出具的检测报告具有权威性和公信力。

服务

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服务领域广泛,涉及众多行业。食品、环境、医药、化工,还是建筑、电子、机械等领域,都能提供专业检测服务。

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