GB/T 29056-2012《硅外延用三氯氢硅化学分析方法硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷和锑量的测定电感耦合等离子体质谱法》

Trichlorosilane for silicon epitaxy - Determination of boron，aluminium，phosphorus，vanadium，chrome，manganese，iron，cobalt，nickel，copper，molybdenum，arsenic and antimony content - Inductively coupled plasma mass spectrometric method

国家标准《硅外延用三氯氢硅化学分析方法硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷和锑量的测定电感耦合等离子体质谱法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准委。

主要起草单位南京中锗科技股份有限公司、南京大学现代分析中心、南京大学国家863计划新材料MO源研究开发中心。

主要起草人郑华荣、刘新军、龚磊荣、张莉萍、黄和明、陈逸君等。

基础信息

标准号：GB/T 29056-2012发布日期：2012-12-31实施日期：2013-10-01标准类别：方法中国标准分类号：L90国际标准分类号：31-030 归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会主管部门：国家标准委

起草单位

南京中锗科技股份有限公司南京大学国家863计划新材料MO源研究开发中心南京大学现代分析中心

起草人

郑华荣刘新军黄和明陈逸君龚磊荣张莉萍

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