GB/T 32188-2015《氮化镓单晶衬底片x射线双晶摇摆曲线半高宽测试方法》

The method for full width at half maximum of double crystal X-ray rocking curve of GaN single crystal substrate

国家标准《氮化镓单晶衬底片x射线双晶摇摆曲线半高宽测试方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准委。

主要起草单位中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、苏州纳维科技有限公司、中国科学院物理研究所、北京天科合达蓝光半导体有限公司、丹东新东方晶体仪器有限公司。

主要起草人邱永鑫、任国强、刘争晖、曾雄辉、王建峰、陈小龙、王文军、郑红军、徐科、赵松彬。

基础信息

标准号：GB/T 32188-2015发布日期：2015-12-10实施日期：2016-11-01标准类别：方法中国标准分类号：H21国际标准分类号：77.040 归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会主管部门：国家标准委

起草单位

中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所中国科学院物理研究所丹东新东方晶体仪器有限公司苏州纳维科技有限公司北京天科合达蓝光半导体有限公司

起草人

邱永鑫任国强王建峰陈小龙徐科赵松彬刘争晖曾雄辉王文军郑红军

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