GB/T 24578-2015《硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法》

Test method for measuring surface metal contamination on silicon wafers by total reflection X-Ray fluorescence spectroscopy

国家标准《硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准委。

主要起草单位有研新材料股份有限公司、万向硅峰电子股份有限公司、浙江省硅材料质量检验中心。

主要起草人孙燕、李俊峰、楼春兰、潘紫龙、朱兴萍。

基础信息

标准号：GB/T 24578-2015发布日期：2015-12-10实施日期：2017-01-01废止日期：2025-02-01全部代替标准：GB/T 24578-2009标准类别：方法中国标准分类号：H17国际标准分类号：77.040 归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会主管部门：国家标准委

起草单位

有研新材料股份有限公司浙江省硅材料质量检验中心万向硅峰电子股份有限公司

起草人

孙燕李俊峰朱兴萍楼春兰潘紫龙

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