GB/T 40109-2021《表面化学分析二次离子质谱硅中硼深度剖析方法》

Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Method for depth profiling of boron in silicon

国家标准《表面化学分析二次离子质谱硅中硼深度剖析方法》由TC608（全国表面化学分析标准化技术委员会）归口，主管部门为中国科学院。

主要起草单位中国电子科技集团公司第四十六研究所。

主要起草人马农农、何友琴、陈潇、张鑫、王东雪、李展平。

基础信息

标准号：GB/T 40109-2021发布日期：2021-05-21实施日期：2021-12-01标准类别：方法中国标准分类号：G04国际标准分类号：71.040.40 归口单位：全国表面化学分析标准化技术委员会执行单位：全国表面化学分析标准化技术委员会主管部门：中国科学院

采标情况

本标准等同采用ISO国际标准：ISO 17560:2014。采标中文名称:表面化学分析二次离子质谱硅中硼深度剖析方法。

起草单位

中国电子科技集团公司第四十六研究所

起草人

马农农何友琴王东雪李展平陈潇张鑫

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