GB/T 41064-2021《表面化学分析深度剖析用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法》

Surface chemical analysis—Depth profiling—Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films

国家标准《表面化学分析深度剖析用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法》由TC608（全国表面化学分析标准化技术委员会）归口，主管部门为中国科学院。

主要起草单位清华大学、中国石油大学（北京）。

主要起草人姚文清、段建霞、杨立平、王雅君、李展平、徐同广、王岩华。

基础信息

标准号：GB/T 41064-2021发布日期：2021-12-31实施日期：2022-07-01标准类别：方法中国标准分类号：G04国际标准分类号：71.040.40 归口单位：全国表面化学分析标准化技术委员会执行单位：全国表面化学分析标准化技术委员会主管部门：中国科学院

采标情况

本标准等同采用ISO国际标准：ISO 17109:2015。采标中文名称:表面化学分析深度剖析用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法。

起草单位

清华大学中国石油大学（北京）

起草人

姚文清段建霞李展平徐同广杨立平王雅君王岩华

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