GB/T 42789-2023《硅片表面光泽度的测试方法》

Test method for gloss of silicon wafer

国家标准《硅片表面光泽度的测试方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准委。

主要起草单位浙江金瑞泓科技股份有限公司、浙江海纳半导体股份有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司、天津中环领先材料技术有限公司、山东有研半导体材料有限公司、上海合晶硅材料股份有限公司、麦斯克电子材料股份有限公司、广东金湾高景太阳能科技有限公司、浙江旭盛电子有限公司、巢湖学院、金瑞泓科技（衢州）有限公司。

主要起草人梁兴勃、李琴、张海英、林松青、潘金平、李素青、张雪囡、由佰玲、边永智、庄智慧、沈辉辉、焦二强、韩云霄、徐志群、付明全、詹玉峰、王可胜。

基础信息

标准号：GB/T 42789-2023发布日期：2023-08-06实施日期：2024-03-01标准类别：方法中国标准分类号：H21国际标准分类号：77.040 归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会主管部门：国家标准委

起草单位

浙江金瑞泓科技股份有限公司有色金属技术经济研究院有限责任公司山东有研半导体材料有限公司麦斯克电子材料股份有限公司浙江旭盛电子有限公司金瑞泓科技（衢州）有限公司浙江海纳半导体股份有限公司天津中环领先材料技术有限公司上海合晶硅材料股份有限公司广东金湾高景太阳能科技有限公司巢湖学院

起草人

梁兴勃李琴潘金平李素青边永智庄智慧韩云霄徐志群王可胜张海英林松青张雪囡由佰玲沈辉辉焦二强付明全詹玉峰

相近标准(计划)

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