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GB/T 14146-2009《硅外延层载流子浓度测定 汞探针电容-电压法》

Silicon epitaxial layers-determination of carrier concentration-mercury probe voltages-capacitance method

国家标准《硅外延层载流子浓度测定 汞探针电容-电压法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,主管部门为国家标准委。

主要起草单位南京国盛电子有限公司、宁波立立电子股份有限公司、信息产业部专用材料质量监督检验中心。

主要起草人马林宝 、唐有青 、刘培东 、李静 、金龙 、吕立平 。

基础信息

标准号:GB/T 14146-2009发布日期:2009-10-30实施日期:2010-06-01废止日期:2021-12-01全部代替标准:GB/T 14146-1993标准类别:方法中国标准分类号:H80国际标准分类号:29.045 归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会主管部门:国家标准委

起草单位

南京国盛电子有限公司信息产业部专用材料质量监督检验中心宁波立立电子股份有限公司

起草人

马林宝唐有青金龙吕立平刘培东李静

相近标准(计划)

GB/T 14146-2021 硅外延层载流子浓度的测试电容-电压法GB/T 11068-2006 砷化镓外延层载流子浓度电容-电压测量方法SJ/T 10481-1994 硅外延层电阻率的面接触三探针方法GB/T 14141-2009 硅外延层、扩散层和离子注入层薄层电阻的测定直排四探针法YS/T 23-2016 硅外延层厚度测定 堆垛层错尺寸法YS/T 23-1992 硅外延层厚度测定堆垛层错尺寸法YS/T 15-2015 硅外延层和扩散层厚度测定 磨角染色法YS/T 15-1991 硅外延层和扩散层厚度测定磨角染色法20250731-T-469 碳化硅外延层载流子寿命的测试 瞬态吸收法YS/T 14-2015 异质外延层和硅多晶层厚度的测量方法

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严格按照法律法规和行业标准行事,不受任何外部干扰,真实反映实际情况,出具的检测报告具有权威性和公信力。

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服务领域广泛,涉及众多行业。食品、环境、医药、化工,还是建筑、电子、机械等领域,都能提供专业检测服务。

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